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超临界微粒制备系统
随着纳米技术的发展，超临界流体技术因其独特的优势在超细颗粒制备的应用也越来越广泛，如催化剂，磁性材料，精细陶瓷，缓释药物等。Hellix系统专注于超细颗粒制备，其微粒粒径小且分布窄，微粒的大小和外观可通过操作参数进行调节，结晶微粒无有机溶剂残留的优点。
超临界微粒制备主要技术参数：
*同一系统可实现超临界流体超细微粒制备的三种方式：
超临界溶剂快速膨胀方法（RESS），圧缩流体抗溶剂沉淀方法（PCA），超临界抗溶剂方法（GAS）
*最高操作温度可达 250℃
*最高操作压力可达 10,000 psi (680bar)
*最高流量 50L/min （气体），400ml/min（液态）
*可选配分离模块
*模块化的设计，可方便的进行系统调整
*萃取釜承压为 30,000 psi，萃取体积：5ml至4000ml可选，可根据用户需求进行定制。
*可添加夹带剂 (夹带剂泵的压力为10,000 psi）
*触摸屏电脑控制，人性化的操作界面
*微粒的粒径小且分布窄（可达纳米级）
*微粒的大小和外观可通过控制操作参数进行调整
*结晶微粒无溶剂残留
*干燥气凝胶
*可选配搅拌功能
*可选配液体逆流萃取
*可选配PSE（压力溶剂萃取）包
* 三重过压安全保护装置及经济压力释放装置
*ASI是超临界技术的领导者，通过了ISO9001的质量认证，是超临界领域唯一通过美国环保署绿色认证的公司。
